Contribuyendo a la ciencia excelente y transformadora
Servicio de medidas físicas
Dotación instrumental
Opción HC (medidas de capacidad calorífica, estándar o con He-3)
Esta opción disponible para el equipo “PPMS” permite realizar medidas de capacidad calorífica (CP). Básicamente, se aplica un pulso de calor con una potencia fija durante un intervalo de tiempo, para producir un incremento de temperatura especificado, y se deja enfriar durante el mismo intervalo (método semiadiabático de relajación).
A partir del ajuste de la evolución de la temperatura T(t) el sistema obtiene el valor de la capacidad calorífica.
Permite incorporar la opción He-3.
Puck estándar
Rango temperatura: 1.9 K a 400 K.
Rango campo aplicado: 0 a ± 9 T, ± 14 T. *
Puck He-3
Rango temperatura: 350 mK a 350 K.
Rango campo aplicado: 0 a ± 9 T, ± 14 T. **
Muestras:
Polvo, film, pastilla.
En muestras con baja conductividad térmica es recomendable que la muestra sea lo más fina posible para obtener un buen acoplamiento térmico.
La máxima dimensión horizontal es de 3 mm.
Debe tener una masa entre 1 y 200 mg.
Se sujeta a la plataforma del puck con grasa de vacío, que mejora el contacto térmico entre la muestra - plataforma.
Medidas:
Las medidas se realizan a alto vacío (0.9 mTorr) para que la pérdida de calor entre la plataforma y el baño térmico (puck) se produzca a través de los hilos, de conductividad térmica calibrada.
Debido al aislamiento térmico del alto vacío, la temperatura de referencia del sistema se toma de un termómetro adicional que se encuentra en el portamuestras. Es el termómetro del puck, en el caso de medidas estándar. En el caso del He-3, es el propio termómetro de la opción He-3, que se haya en el insert en contacto con el portamuestras.
* El campo aplicado es perpendicular a la superficie del portamuestras del puck estándar. Está disponible un adaptador a orientación vertical para medir con la plataforma portamuestras en la dirección paralela al campo. ** El insert de He-3 permite colocar el portamuestras paralelo o perpendicular al campo aplicado.